在真空紫外、極紫外光譜分析領域，寬譜與高精度探測需求推動設備迭代。超環面光柵單色器憑借像差校正技術與精簡設計，成為寬譜分析核心裝備，實現10-300nm穩定覆蓋，兼顧高分辨與高光通量，為前沿領域精準分析提供支撐。
核心技術：鑄就寬譜高精度分析能力
其核心競爭力源于像差校正超環面光柵的應用，以單一光學元件實現衍射分光，通過特殊曲面校正像差，在10-300nm寬譜內保障高分辨與高光通量。無需復雜補償結構，簡化布局且規避能量損耗，提升光學效率，適配探測需求。
寬譜適配性強化其核心地位，選配不同光柵可靈活覆蓋10-300nm全波段，適配真空紫外、極紫外場景，滿足多領域差異化寬譜探測需求。
關鍵參數：夯實核心裝備性能基石
嚴苛參數為高性能保駕護航，圍繞寬譜高精度需求優化，筑牢核心裝備性能根基：
-波長范圍10~300nm，可通過光柵選配實現全波段靈活適配；
-低像散特性配合像差校正，提升信號純凈度，保障寬譜分析精度；
-高真空兼容適配10??Pa，支持10??Pa超高真空定制，減少氣體分子干擾；
-在線可調狹縫5μm~300μm連續可調，兼顧微量探測與寬譜掃描；
-單光學元件設計結構簡單、效率高，降低維護成本，提升穩定性；
-遠程激光瞄準快速定位測點，簡化操作，提升寬譜分析效率；
-光譜分辨率0.1nm（37.93nm處），支持按需優化調整；
多元應用：核心裝備賦能前沿領域
憑借寬譜、高精度、高穩定性優勢，該設備深度賦能前沿領域。強場物理領域可捕捉條件光譜信號；半導體制造領域為芯片工藝優化、材料表征提供精準數據，保障良率。
在計量級標定領域，可精準標定紫外、極紫外探測器及光源；在極紫外反射率研究領域，為光學元件研發提供關鍵數據支撐。
綜上，該設備以像差校正技術為核心，適配寬譜分析核心需求，是科研與工業質控的關鍵裝備，推動寬譜光譜技術向更高精度、更高效方向邁進。
更新時間：2026-01-26
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